產品對比
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高真空電子束蒸發薄膜沉積系統--EB700
零售價
0.0
元
市場價
0.0
元
瀏覽量:
1000
產品編號
所屬分類
電子束蒸發鍍膜設備
真空室結構:
U形前開門
真空室尺寸:
700x700x900mm
極限真空度:
≤6.6E-5Pa
沉積源:
6個40cc坩堝
樣品尺寸，溫度:
φ4英寸，26片，最高300℃
占地面積（長x寬x高）:
約3.2米x3.9米x2.1米
電控描述:
全自動
工藝:
片內膜厚均勻性：≤±3%
特色參數 :
工件架有拱形基片架和行星形基片架：可根據用戶基片尺寸設計工件架
數量
-
+
庫存:
1
產品描述
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產品概述：
系統主要由蒸發室、主抽過渡管路、旋轉基片架、光加熱系統、電子槍及電源、石英晶體振蕩膜厚監控儀、工作氣路、抽氣系統、控制系統、安裝機臺等部分組成，體現立方整體外觀，適用于超凈間間壁隔離安裝，操作面板一端處在相對要求較高超凈環境，其余部分（含低溫泵抽系統）處在相對要求較低超凈環境。
設備用途：
本系統配有一套電子槍及電源，可滿足在Al，Ni，Ag，Pt，Pd，Mo,Cr和Ti等多種金屬和介質膜基片上均勻沉積多層膜的需要。
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