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    高真空電子束蒸發薄膜沉積系統--EB700
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    高真空電子束蒸發薄膜沉積系統--EB700

    系統主要由蒸發室、主抽過渡管路、旋轉基片架、光加熱系統、電子槍及電源、石英晶體振蕩膜厚監控儀、工作氣路、抽氣系統、控制系統、安裝機臺等部分組成,體現立方整體外觀,適用于超凈間間壁隔離安裝,操作面板一端處在相對要求較高超凈環境,其余部分(含低溫泵抽系統)處在相對要求較低超凈環境。
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    產品編號
    真空室結構:
    U形前開門
    真空室尺寸:
    700x700x900mm
    極限真空度:
    ≤6.6E-5Pa
    沉積源:
    6個40cc坩堝
    樣品尺寸,溫度:
    φ4英寸,26片,最高300℃
    占地面積(長x寬x高):
    約3.2米x3.9米x2.1米
    電控描述:
    全自動
    工藝:
    片內膜厚均勻性:≤±3%
    特色參數 :
    工件架有拱形基片架和行星形基片架:可根據用戶基片尺寸設計工件架
    數量
    -
    +
    庫存:
    1
    產品描述
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    產品概述:
    系統主要由蒸發室、主抽過渡管路、旋轉基片架、光加熱系統、電子槍及電源、石英晶體振蕩膜厚監控儀、工作氣路、抽氣系統、控制系統、安裝機臺等部分組成,體現立方整體外觀,適用于超凈間間壁隔離安裝,操作面板一端處在相對要求較高超凈環境,其余部分(含低溫泵抽系統)處在相對要求較低超凈環境。

    設備用途:
    本系統配有一套電子槍及電源,可滿足在Al,Ni,Ag,Pt,Pd,Mo,Cr和Ti等多種金屬和介質膜基片上均勻沉積多層膜的需要。
     

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