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    高真空磁控濺射與離子束復合薄膜沉積系統--FJL560
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    高真空磁控濺射與離子束復合薄膜沉積系統--FJL560

    本沉積系統可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等,工藝性能穩定、模塊化結構,采用行業領先的軟件控制系統。
    零售價
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    市場價
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    瀏覽量:
    1000
    產品編號
    真空室結構:
    圓筒形上升蓋
    真空室尺寸:
    φ550x450mm
    極限真空度:
    ≤6.0E-5Pa
    沉積源:
    磁控靶3套,φ2英寸;四工位轉靶1套;
    樣品尺寸,溫度:
    φ2英寸,6片。最高800℃
    占地面積(長x寬x高):
    約3米×1.1米×2米
    電控描述:
    全自動
    工藝:
    片內膜厚均勻性:≤±3%
    特色參數 :
    濺射源:考夫曼離子源 Kaufman 2套,φ2英寸
    數量
    -
    +
    庫存:
    1
    產品描述
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    產品概述:
    本沉積系統可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等,工藝性能穩定、模塊化結構,采用行業領先的軟件控制系統。

    設備用途:
    用于納米級單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備??蓮V泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研項目。
     

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