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    激光鍍膜設備

    激光鍍膜設備產品
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    高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統--PLD300
    編號:
    產品概述:系統主要由濺射真空室、旋轉靶臺、抗氧化基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統、安裝機臺、真空測量及電控系統等部分組成。設備用途:用于制備超導薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、超硬薄膜等。廣泛應用于大專院校、科研院所進行薄膜材料的科研。
    高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統--PLD450
    編號:
    系統主要由真空室、旋轉靶臺、基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統、安裝機臺、真空測量及電控系統等部分組成。
    超高真空激光分子束外延薄膜沉積系統--LMBE450
    編號:
    系統由真空腔室(外延室、進樣室)、樣品傳遞機構、樣品架、立式旋轉靶臺、基片加熱臺、抽氣系統、真空測量、工作氣路、電控系統、計算機控制等各部分組成。
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