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    磁控濺射鍍膜系統

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    高真空磁控濺射薄膜沉積系統--PVD400
    編號:
    本沉積系統可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等,工藝性能穩定、模塊化結構,采用行業領先的軟件控制系統。
    高真空磁控濺射薄膜沉積系統--PVD500
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    SMART磁控濺射薄膜沉積系統
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    線列式磁控濺射系統
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    高真空磁控濺射薄膜沉積系統--TRP450
    編號:
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    高真空磁控濺射粉末顆粒表面薄膜沉積系統--PC450
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    高真空磁控濺射薄膜沉積系統--JGP450
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    本沉積系統可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等,工藝性能穩定、模塊化結構,采用行業領先的軟件控制系統。
    高真空磁控濺射薄膜沉積系統--JGP560
    編號:
    本沉積系統可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等,工藝性能穩定、模塊化結構,采用行業領先的軟件控制系統。
    高真空磁控濺射與離子束復合薄膜沉積系統--FJL560
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    本沉積系統可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等,工藝性能穩定、模塊化結構,采用行業領先的軟件控制系統。
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